ઉત્પાદનો
સેલફોન સ્ક્રીન માટે એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડર
એલ્યુમિના ઓક્સાઇડ પાવડર
ગુણધર્મો
નાના કદ, ઉચ્ચ પ્રવૃત્તિ અને નીચા ગલન તાપમાન સાથે Nano-Al2O3, તેનો ઉપયોગ થર્મલ મેલ્ટિંગ તકનીકોની પદ્ધતિ સાથે કૃત્રિમ નીલમના ઉત્પાદન માટે કરી શકાય છે;મોટા સપાટી વિસ્તાર અને ઉચ્ચ ઉત્પ્રેરક પ્રવૃત્તિ સાથે જી-ફેઝ નેનો-Al2O3, તેને માઇક્રોપોરસ ગોળાકાર માળખું અથવા ઉત્પ્રેરક સામગ્રીના મધપૂડાના માળખામાં બનાવી શકાય છે.આ પ્રકારની રચનાઓ ઉત્તમ ઉત્પ્રેરક વાહક હોઈ શકે છે.જો ઔદ્યોગિક ઉત્પ્રેરક તરીકે ઉપયોગ કરવામાં આવે, તો તે પેટ્રોલિયમ શુદ્ધિકરણ, પેટ્રોકેમિકલ અને ઓટોમોટિવ એક્ઝોસ્ટ શુદ્ધિકરણ માટે મુખ્ય સામગ્રી હશે.વધુમાં, જી-ફેઝ નેનો-Al2O3 વિશ્લેષણાત્મક રીએજન્ટ તરીકે ઉપયોગ કરી શકાય છે.
| ગ્રેડ | રાસાયણિક રચના | α- Al2O3 (%) | સાચી ઘનતા (g/cm3) | સ્ફટિક કદ (μm) | ||||
| Al2O3(%) | SiO2(%) | Fe2O3(%) | Na2O(%) | LOI(%) | ||||
| એસી-30 | ≥99 | ≤0.1 | ≤0.04 | ≤0.5 | ≤0.2 | ≥94 | ≥3.93 | 4.0±1 |
| AC-30-A | ≥99 | ≤0.1 | ≤0.04 | ≤0.5 | ≤0.2 | ≥93 | ≥3.93 | 2.5±1 |
| AF-0 | ≥99 | ≤0.1 | ≤0.03 | ≤0.30 | ≤0.2 | ≥95 | ≥3.90 | 2.0±0.5 |
| AC-200-MS | ≥99 | ≤0.1 | ≤0.04 | 0.10-0.30 | ≤0.2 | ≥95 | ≥3.93 | 2.0±1 |
| AC-300-MS | ≥99 | ≤0.1 | ≤0.04 | 0.10-0.30 | ≤0.2 | ≥95 | ≥3.90 | ≥3 |
1. પારદર્શક સિરામિક્સ: ઉચ્ચ દબાણવાળા સોડિયમ લેમ્પ્સ, EP-ROM વિન્ડો;
2. કોસ્મેટિક ફિલર;
3. સિંગલ ક્રિસ્ટલ, રૂબી, નીલમ, નીલમ, યટ્રીયમ એલ્યુમિનિયમ ગાર્નેટ;
4. ઉચ્ચ-શક્તિવાળા એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ સિરામિક, સી સબસ્ટ્રેટ, પેકેજિંગ સામગ્રી, કટીંગ ટૂલ્સ, ઉચ્ચ શુદ્ધતા ક્રુસિબલ, વિન્ડિંગ એક્સલ,
લક્ષ્ય પર બોમ્બમારો, ભઠ્ઠી નળીઓ;
5. પોલિશિંગ મટિરિયલ્સ, ગ્લાસ પ્રોડક્ટ્સ, મેટલ પ્રોડક્ટ્સ, સેમિકન્ડક્ટર મટિરિયલ્સ, પ્લાસ્ટિક, ટેપ, ગ્રાઇન્ડિંગ બેલ્ટ;
6. પેઇન્ટ, રબર, પ્લાસ્ટિક વસ્ત્રો-પ્રતિરોધક મજબૂતીકરણ, અદ્યતન વોટરપ્રૂફ સામગ્રી;
7. બાષ્પ જમાવવાની સામગ્રી, ફ્લોરોસન્ટ સામગ્રી, ખાસ કાચ, સંયુક્ત સામગ્રી અને રેઝિન;
8. ઉત્પ્રેરક, ઉત્પ્રેરક વાહક, વિશ્લેષણાત્મક રીએજન્ટ;
9. એરોસ્પેસ એરક્રાફ્ટ પાંખ અગ્રણી ધાર.
તમારી પૂછપરછ
જો તમને કોઈ પ્રશ્નો હોય. કૃપા કરીને અમારો સંપર્ક કરવા માટે નિઃસંકોચ કરો.
