ઉત્પાદનો
સેલફોન સ્ક્રીન માટે એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ પાવડર
એલ્યુમિના ઓક્સાઇડ પાવડર
ગુણધર્મો
નાના કદ, ઉચ્ચ પ્રવૃત્તિ અને નીચા ગલન તાપમાન સાથે નેનો-Al2O3, તેનો ઉપયોગ થર્મલ ગલન તકનીકોની પદ્ધતિનો ઉપયોગ કરીને કૃત્રિમ નીલમ બનાવવા માટે થઈ શકે છે; વિશાળ સપાટી વિસ્તાર અને ઉચ્ચ ઉત્પ્રેરક પ્રવૃત્તિ સાથે, તેને ઉત્પ્રેરક સામગ્રીના માઇક્રોપોરસ ગોળાકાર માળખા અથવા મધપૂડા માળખામાં બનાવી શકાય છે. આ પ્રકારની રચનાઓ ઉત્તમ ઉત્પ્રેરક વાહક બની શકે છે. જો તેનો ઉપયોગ ઔદ્યોગિક ઉત્પ્રેરક તરીકે કરવામાં આવે, તો તે પેટ્રોલિયમ રિફાઇનિંગ, પેટ્રોકેમિકલ અને ઓટોમોટિવ એક્ઝોસ્ટ શુદ્ધિકરણ માટે મુખ્ય સામગ્રી હશે. વધુમાં, g-ફેઝ નેનો-Al2O3 નો ઉપયોગ વિશ્લેષણાત્મક રીએજન્ટ તરીકે થઈ શકે છે.
| ગ્રેડ | રાસાયણિક રચના | α- અલ2ઓ3 (%) | સાચી ઘનતા (ગ્રામ/સેમી3) | સ્ફટિકનું કદ (માઇક્રોન) | ||||
| Al2O3(%) | SiO2(%) | ફે2ઓ3(%) | Na2O(%) | LOI(%) | ||||
| એસી-30 | ≥૯૯ | ≤0.1 | ≤0.04 | ≤0.5 | ≤0.2 | ≥૯૪ | ≥૩.૯૩ | ૪.૦±૧ |
| એસી-30-એ | ≥૯૯ | ≤0.1 | ≤0.04 | ≤0.5 | ≤0.2 | ≥૯૩ | ≥૩.૯૩ | ૨.૫±૧ |
| એએફ-0 | ≥૯૯ | ≤0.1 | ≤0.03 | ≤0.30 | ≤0.2 | ≥૯૫ | ≥૩.૯૦ | ૨.૦±૦.૫ |
| એસી-200-એમએસ | ≥૯૯ | ≤0.1 | ≤0.04 | ૦.૧૦-૦.૩૦ | ≤0.2 | ≥૯૫ | ≥૩.૯૩ | ૨.૦±૧ |
| એસી-300-એમએસ | ≥૯૯ | ≤0.1 | ≤0.04 | ૦.૧૦-૦.૩૦ | ≤0.2 | ≥૯૫ | ≥૩.૯૦ | ≥3 |
1. પારદર્શક સિરામિક્સ: ઉચ્ચ-દબાણવાળા સોડિયમ લેમ્પ્સ, EP-ROM વિન્ડો;
2. કોસ્મેટિક ફિલર;
3. સિંગલ ક્રિસ્ટલ, રૂબી, નીલમ, નીલમ, યટ્રીયમ એલ્યુમિનિયમ ગાર્નેટ;
૪. ઉચ્ચ-શક્તિવાળા એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ સિરામિક, સી સબસ્ટ્રેટ, પેકેજિંગ સામગ્રી, કટીંગ ટૂલ્સ, ઉચ્ચ શુદ્ધતા ક્રુસિબલ, વિન્ડિંગ એક્સલ,
લક્ષ્ય પર બોમ્બમારો, ભઠ્ઠીની નળીઓ;
5. પોલિશિંગ મટિરિયલ્સ, કાચના ઉત્પાદનો, ધાતુના ઉત્પાદનો, સેમિકન્ડક્ટર મટિરિયલ્સ, પ્લાસ્ટિક, ટેપ, ગ્રાઇન્ડીંગ બેલ્ટ;
6. પેઇન્ટ, રબર, પ્લાસ્ટિક વસ્ત્રો-પ્રતિરોધક મજબૂતીકરણ, અદ્યતન વોટરપ્રૂફ સામગ્રી;
7. બાષ્પ નિક્ષેપન સામગ્રી, ફ્લોરોસન્ટ સામગ્રી, ખાસ કાચ, સંયુક્ત સામગ્રી અને રેઝિન;
8. ઉત્પ્રેરક, ઉત્પ્રેરક વાહક, વિશ્લેષણાત્મક રીએજન્ટ;
9. એરોસ્પેસ એરક્રાફ્ટ વિંગ લીડ એજ.
તમારી પૂછપરછ
જો તમને કોઈ પ્રશ્નો હોય તો. કૃપા કરીને અમારો સંપર્ક કરવા માટે નિઃસંકોચ રહો.
