ઉત્પાદનો
ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ ઝિર્કોનિયા પાવડર
ઝિર્કોન પાવડર
ઝિર્કોનિયા પાવડરમાં ઉચ્ચ કઠિનતા, ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રતિકાર, રાસાયણિક કાટ પ્રતિકાર, વસ્ત્રો પ્રતિકાર, નાની થર્મલ વાહકતા, મજબૂત થર્મલ શોક પ્રતિકાર, સારી રાસાયણિક સ્થિરતા, ઉત્કૃષ્ટ સંયુક્ત સામગ્રી વગેરેની લાક્ષણિકતાઓ છે. નેનોમીટર ઝિર્કોનિયાને એલ્યુમિના અને સિલિકોન ઓક્સાઇડ સાથે જોડીને સામગ્રીના ગુણધર્મોમાં સુધારો કરી શકાય છે. નેનો ઝિર્કોનિયાનો ઉપયોગ ફક્ત માળખાકીય સિરામિક્સ અને કાર્યાત્મક સિરામિક્સમાં જ થતો નથી. નેનો ઝિર્કોનિયા વિવિધ તત્વોના વાહક ગુણધર્મો સાથે ડોપ થયેલ છે, જેનો ઉપયોગ ઘન બેટરી ઇલેક્ટ્રોડ ઉત્પાદનમાં થાય છે.
ભૌતિક ગુણધર્મો
ખૂબ ઊંચો ગલનબિંદુ
ઊંચા તાપમાને રાસાયણિક સ્થિરતા
ધાતુઓની તુલનામાં ઓછું થર્મલ વિસ્તરણ
ઉચ્ચ યાંત્રિક પ્રતિકાર
ઘર્ષણ પ્રતિકાર
કાટ પ્રતિકાર
ઓક્સાઇડ આયન વાહકતા (સ્થિર થાય ત્યારે)
રાસાયણિક જડતા
વિશિષ્ટતાઓ
| ગુણધર્મોનો પ્રકાર | ઉત્પાદન પ્રકારો | ||||
| રાસાયણિક રચના | સામાન્ય ZrO2 | ઉચ્ચ શુદ્ધતા ZrO2 | 3Y ZrO2 | 5Y ZrO2 | ૮Y ZrO2 |
| ZrO2+HfO2 % | ≥૯૯.૫ | ≥૯૯.૯ | ≥૯૪.૦ | ≥90.6 | ≥૮૬.૦ |
| Y2O3 % | ----- | ------ | ૫.૨૫±૦.૨૫ | ૮.૮±૦.૨૫ | ૧૩.૫±૦.૨૫ |
| Al2O3 % | <0.01 | <0.005 | ૦.૨૫±૦.૦૨ | <0.01 | <0.01 |
| ફે2ઓ3% | <0.01 | <0.003 | <0.005 | <0.005 | <0.01 |
| સિઓ2% | <0.03 | <0.005 | <0.02 | <0.02 | <0.02 |
| ટાઈઓ2% | <0.01 | <0.003 | <0.005 | <0.005 | <0.005 |
| પાણીની રચના (wt%) | <0.5 | <0.5 | <1.0 | <1.0 | <1.0 |
| LOI(wt%) | <1.0 | <1.0 | <3.0 | <3.0 | <3.0 |
| ડી50(μm) | <5.0 | <0.5-5 | <3.0 | <1.0-5.0 | <1.0 |
| સપાટી ક્ષેત્રફળ (m2/g) | <7 | ૩-૮૦ | ૬-૨૫ | ૮-૩૦ | ૮-૩૦ |
| ગુણધર્મોનો પ્રકાર | ઉત્પાદન પ્રકારો | ||||
| રાસાયણિક રચના | ૧૨Y ZrO2 | યેલો વાયસ્થિરZrO2 | કાળો વાયસ્થિરZrO2 | નેનો ZrO2 | થર્મલ છંટકાવ ZrO2 |
| ZrO2+HfO2 % | ≥૭૯.૫ | ≥૯૪.૦ | ≥૯૪.૦ | ≥૯૪.૨ | ≥90.6 |
| Y2O3 % | ૨૦±૦.૨૫ | ૫.૨૫±૦.૨૫ | ૫.૨૫±૦.૨૫ | ૫.૨૫±૦.૨૫ | ૮.૮±૦.૨૫ |
| Al2O3 % | <0.01 | ૦.૨૫±૦.૦૨ | ૦.૨૫±૦.૦૨ | <0.01 | <0.01 |
| ફે2ઓ3% | <0.005 | <0.005 | <0.005 | <0.005 | <0.005 |
| સિઓ2% | <0.02 | <0.02 | <0.02 | <0.02 | <0.02 |
| ટાઈઓ2% | <0.005 | <0.005 | <0.005 | <0.005 | <0.005 |
| પાણીની રચના (wt%) | <1.0 | <1.0 | <1.0 | <1.0 | <1.0 |
| LOI(wt%) | <3.0 | <3.0 | <3.0 | <3.0 | <3.0 |
| ડી50(μm) | <1.0-5.0 | <1.0 | <1.0-1.5 | <1.0-1.5 | <120 |
| સપાટી ક્ષેત્રફળ (m2/g) | ૮-૧૫ | ૬-૧૨ | ૬-૧૫ | ૮-૧૫ | ૦-૩૦ |
| ગુણધર્મોનો પ્રકાર | ઉત્પાદન પ્રકારો | |||
| રાસાયણિક રચના | સેરિયમસ્થિરZrO2 | મેગ્નેશિયમ સ્થિર થયુંZrO2 | કેલ્શિયમ સ્થિર ZrO2 | ઝિર્કોન એલ્યુમિનિયમ કમ્પોઝિટ પાવડર |
| ZrO2+HfO2 % | ૮૭.૦±૧.૦ | ૯૪.૮±૧.૦ | ૮૪.૫±૦.૫ | ≥૧૪.૨±૦.૫ |
| CaO | ----- | ------ | ૧૦.૦±૦.૫ | ----- |
| એમજીઓ | ----- | ૫.૦±૧.૦ | ------ | ----- |
| સીઓ2 | ૧૩.૦±૧.૦ | ------ | ------ | ------ |
| Y2O3 % | ----- | ------ | ------ | ૦.૮±૦.૧ |
| Al2O3 % | <0.01 | <0.01 | <0.01 | ૮૫.૦±૧.૦ |
| ફે2ઓ3% | <0.002 | <0.002 | <0.002 | <0.005 |
| સિઓ2% | <0.015 | <0.015 | <0.015 | <0.02 |
| ટાઈઓ2% | <0.005 | <0.005 | <0.005 | <0.005 |
| પાણીની રચના (wt%) | <1.0 | <1.0 | <1.0 | <1.5 |
| LOI(wt%) | <3.0 | <3.0 | <3.0 | <3.0 |
| ડી50(μm) | <1.0 | <1.0 | <1.0 | <1.5 |
| સપાટી ક્ષેત્રફળ (m2/g) | ૩-૩૦ | ૬-૧૦ | ૬-૧૦ | ૫-૧૫ |
ઝિર્કોનિયા પાવડર એપ્લિકેશન્સ
અમે ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા ઝિર્કોનિયા પાવડર પ્રદાન કરીએ છીએ, જેનો ઉપયોગ ઘણા પ્રસંગોમાં થઈ શકે છે, જેમ કે લિથિયમ બેટરીનું કેથોડ મટિરિયલ, TZP સ્ટ્રક્ચર, દાંત, મોબાઇલ ફોનની બેકપ્લેટ, ઝિર્કોનિયા રત્ન, તેમાંથી:
સકારાત્મક સામગ્રી તરીકે વપરાય છે:
અમારા દ્વારા પૂરા પાડવામાં આવેલ ઝિર્કોનિયા પાવડરમાં બારીક કદ, એકસમાન કણોના કદનું વિતરણ, કોઈ સખત સંચય નહીં અને સારી ગોળાકારતા જેવી લાક્ષણિકતાઓ છે. તેને લિથિયમ બેટરીના કેથોડ સામગ્રીમાં ડોપ કરવાથી બેટરીના ચક્ર પ્રદર્શન અને દર પ્રદર્શનમાં સુધારો થઈ શકે છે. તેની વાહકતાનો ઉપયોગ કરીને, ઉચ્ચ શુદ્ધતાવાળા ઝિર્કોનિયા પાવડરનો ઉપયોગ ઉચ્ચ-પ્રદર્શન સોલિડ બેટરીમાં ઇલેક્ટ્રોડ ઉત્પાદન માટે કરી શકાય છે. ઝિર્કોનિયા પાવડર (99.99%) નો ઉપયોગ લિથિયમ બેટરી માટે એનોડ સામગ્રી તરીકે થઈ શકે છે, જેમ કે નિકલ કોબાલ્ટ લિથિયમ મેંગેનેટ (NiCoMn) O2), લિથિયમ કોબાલ્ટાઇટ (LiCoO2), લિથિયમ મેંગેનેટ (LiMn2O4).
માળખાકીય સભ્યો માટે:
TZP, ટેટ્રાગોનલ ઝિર્કોનિયા પોલીક્રિસ્ટલાઇન સિરામિક્સ. જ્યારે સ્ટેબિલાઇઝરનું પ્રમાણ યોગ્ય માત્રામાં નિયંત્રિત થાય છે, ત્યારે t-ZrO2 ને ઓરડાના તાપમાને મેટાસ્ટેબલ સ્થિતિમાં સંગ્રહિત કરી શકાય છે. બાહ્ય બળના પ્રભાવ હેઠળ, તે t-ZrO2 તબક્કામાં ફેરફાર કરી શકે છે, બિન-તબક્કામાં ફેરફાર ZrO2 શરીરને મજબૂત બનાવી શકે છે અને સમગ્ર સિરામિકની ફ્રેક્ચર લાઇનને સુધારી શકે છે. TZP માં ઉચ્ચ શક્તિ, ઉચ્ચ કઠિનતા અને ઉચ્ચ વસ્ત્રો પ્રતિકાર જેવા ઉત્તમ યાંત્રિક ગુણધર્મો છે. તેનો ઉપયોગ અગ્નિ-પ્રતિરોધક અને ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રતિરોધક માળખાકીય ભાગો બનાવવા માટે થઈ શકે છે.
પોર્સેલિન દાંત માટે:
ઝિર્કોનિયામાં ઉચ્ચ શક્તિ, સારી બાયોકોમ્પેટિબિલિટી, જીન્જીવાને કોઈ ઉત્તેજના નથી, અને કોઈ એલર્જીક પ્રતિક્રિયા નથી, તેથી તે મૌખિક ઉપયોગ માટે ખૂબ જ યોગ્ય છે. તેથી, ઝિર્કોનિયા પાવડરનો ઉપયોગ ઘણીવાર ઝિર્કોનિયા સિરામિક દાંત બનાવવા માટે થાય છે. ઝિર્કોનિયા ઓલ-સિરામિક દાંત કમ્પ્યુટર-સહાયિત ડિઝાઇન, લેસર સ્કેનિંગ દ્વારા બનાવવામાં આવે છે, અને પછી કમ્પ્યુટર પ્રોગ્રામ દ્વારા નિયંત્રિત થાય છે. તેમાં સારા અર્ધપારદર્શક દેખાવ, ઉચ્ચ-ઘનતા અને તીવ્રતા, સંપૂર્ણ નજીકની ધાર, જીન્જીવાઇટિસ નહીં, એક્સ-રેમાં કોઈ અવરોધ નહીં, વગેરે જેવા લક્ષણો છે. તે ક્લિનિકલમાં લાંબા ગાળાની સમારકામ અસરો મેળવી શકે છે.
મોબાઇલ ફોનની પાછળની પેનલ બનાવવા માટે વપરાય છે:
5G યુગમાં, સિગ્નલ ટ્રાન્સમિશન સ્પીડ 4G કરતા 1-100 ગણી હોવી જોઈએ. 5G કોમ્યુનિકેશન 3GHz કરતા વધુ સ્પેક્ટ્રમનો ઉપયોગ કરે છે, અને તેની મિલીમીટર-તરંગ તરંગલંબાઇ ટૂંકી હોય છે. મેટલ બેકપ્લેનની તુલનામાં, મોબાઇલ ફોનના સિરામિક બેકપ્લેનમાં સિગ્નલમાં કોઈ દખલ નથી અને તે અન્ય સામગ્રીની તુલનામાં અજોડ, શ્રેષ્ઠ પ્રદર્શન ધરાવે છે. બધી સિરામિક સામગ્રીઓમાં, ઝિર્કોનિયા સિરામિકમાં ઉચ્ચ શક્તિ, ઉચ્ચ કઠિનતા, એસિડ અને આલ્કલી પ્રતિકાર, કાટ પ્રતિકાર અને ઉચ્ચ રાસાયણિક સ્થિરતાના ફાયદા છે. તે જ સમયે, તેમાં સ્ક્રેચ પ્રતિકાર, કોઈ સિગ્નલ રક્ષણ, ઉત્તમ ગરમીનું વિસર્જન પ્રદર્શન અને સારી દેખાવ અસર જેવી લાક્ષણિકતાઓ છે. તેથી, પ્લાસ્ટિક, ધાતુ અને કાચ પછી ઝિર્કોનિયા મોબાઇલ ફોન બોડી મટિરિયલનો એક નવો પ્રકાર બની ગયો છે. હાલમાં, મોબાઇલ ફોનમાં ઝિર્કોનિયા સિરામિક એપ્લિકેશન મુખ્યત્વે બેકપ્લેટ અને ફિંગરપ્રિન્ટ ઓળખ કવર પ્લેટથી બનેલી છે.
ઝિર્કોનિયા રત્ન બનાવવા માટે વપરાય છે:
ઝિર્કોનિયા પાવડરમાંથી ઝિર્કોનિયા રત્નોનું ઉત્પાદન ઝિર્કોનિયાની ઊંડાણપૂર્વક પ્રક્રિયા અને ઉપયોગનું એક મહત્વપૂર્ણ ક્ષેત્ર છે. કૃત્રિમ ક્યુબિક ઝિર્કોનિયા એક સખત, રંગહીન અને ઓપ્ટિકલી દોષરહિત સ્ફટિક છે. તેની ઓછી કિંમત, ટકાઉ અને હીરા જેવા દેખાવને કારણે, 1976 થી ક્યુબિક ઝિર્કોનિયા રત્નો હીરાના સૌથી મહત્વપૂર્ણ વિકલ્પ રહ્યા છે.
તમારી પૂછપરછ
જો તમને કોઈ પ્રશ્નો હોય તો. કૃપા કરીને અમારો સંપર્ક કરવા માટે નિઃસંકોચ રહો.
પૂછપરછ ફોર્મ
તમારો સંદેશ અહીં લખો અને અમને મોકલો.
