ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ (ZrO₂)ઝિર્કોનિયમ ડાયોક્સાઇડ તરીકે પણ ઓળખાય છે, તે એક મહત્વપૂર્ણ ઉચ્ચ-પ્રદર્શન સિરામિક સામગ્રી છે. તે ઉત્તમ ભૌતિક અને રાસાયણિક ગુણધર્મો ધરાવતો સફેદ અથવા આછો પીળો પાવડર છે. ઝિર્કોનિયામાં લગભગ 2700°C ગલનબિંદુ, ઉચ્ચ કઠિનતા, ઉચ્ચ યાંત્રિક શક્તિ, સારી થર્મલ સ્થિરતા અને રાસાયણિક સ્થિરતા છે, અને તે એસિડ અને આલ્કલી કાટ અને ઉચ્ચ તાપમાન વાતાવરણનો સામનો કરી શકે છે. વધુમાં, ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડમાં ઉચ્ચ રીફ્રેક્ટિવ ઇન્ડેક્સ અને ઉત્તમ ઓપ્ટિકલ ગુણધર્મો છે, તેથી તેનો ઉપયોગ ઓપ્ટિકલ ક્ષેત્રમાં પણ વ્યાપકપણે થાય છે.
વ્યવહારિક ઉપયોગોમાં, શુદ્ધઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડતબક્કા પરિવર્તનની સમસ્યાઓ છે (મોનોક્લિનિક તબક્કાથી ટેટ્રાગોનલ તબક્કામાં સંક્રમણ વોલ્યુમ પરિવર્તન અને સામગ્રી ક્રેકીંગનું કારણ બનશે), તેથી સામાન્ય રીતે યટ્રીયમ ઓક્સાઇડ (Y₂O₃), કેલ્શિયમ ઓક્સાઇડ (CaO) અથવા મેગ્નેશિયમ ઓક્સાઇડ (MgO) જેવા સ્ટેબિલાઇઝર્સને ડોપ કરીને સ્થિર ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ (સ્થિર ઝિર્કોનિયા) બનાવવા માટે તેના યાંત્રિક ગુણધર્મો અને થર્મલ શોક પ્રતિકારને સુધારવા માટે જરૂરી છે. વાજબી ડોપિંગ અને સિન્ટરિંગ પ્રક્રિયાઓ દ્વારા, ઝિર્કોનિયા સામગ્રી માત્ર ઉત્તમ યાંત્રિક ગુણધર્મો જાળવી શકતી નથી, પરંતુ સારી આયનીય વાહકતા પણ દર્શાવે છે, જે તેને માળખાકીય સિરામિક્સ, બળતણ કોષો, ઓક્સિજન સેન્સર, તબીબી પ્રત્યારોપણ અને અન્ય ક્ષેત્રોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લે છે.
પરંપરાગત માળખાકીય સામગ્રીના ઉપયોગ ઉપરાંત, ઝિર્કોનિયા અતિ-ચોકસાઇ સપાટી સારવારના ક્ષેત્રમાં, ખાસ કરીને ઉચ્ચ-સ્તરીય પોલિશિંગ સામગ્રીના ક્ષેત્રમાં પણ વધુને વધુ મહત્વપૂર્ણ ભૂમિકા ભજવે છે. તેના અનન્ય ભૌતિક ગુણધર્મો સાથે, ઝિર્કોનિયા ચોકસાઇ પોલિશિંગ માટે એક અનિવાર્ય મુખ્ય સામગ્રી બની ગયું છે.
પોલિશિંગના ક્ષેત્રમાં,ઝિર્કોનિયામુખ્યત્વે ઉચ્ચ કક્ષાના પોલિશિંગ પાવડર અને પોલિશિંગ સ્લરી તરીકે ઉપયોગમાં લેવાય છે. તેની મધ્યમ કઠિનતા (લગભગ 8.5 ની મોહ્સ કઠિનતા), ઉચ્ચ યાંત્રિક શક્તિ અને સારી રાસાયણિક જડતાને કારણે, ઝિર્કોનિયા ઉચ્ચ પોલિશિંગ દર સુનિશ્ચિત કરતી વખતે અત્યંત ઓછી સપાટીની ખરબચડીતા પ્રાપ્ત કરી શકે છે, અને મિરર-લેવલ ફિનિશ મેળવી શકે છે. એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ અને સેરિયમ ઓક્સાઇડ જેવી પરંપરાગત પોલિશિંગ સામગ્રીની તુલનામાં, ઝિર્કોનિયા પોલિશિંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન સામગ્રી દૂર કરવાના દર અને સપાટીની ગુણવત્તાને વધુ સારી રીતે સંતુલિત કરી શકે છે, અને અતિ-ચોકસાઇ ઉત્પાદનના ક્ષેત્રમાં એક મહત્વપૂર્ણ પોલિશિંગ માધ્યમ છે.
ઝિર્કોનિયા પોલિશિંગ પાવડરમાં સામાન્ય રીતે 0.05μm અને 1μm વચ્ચે નિયંત્રિત કણોનું કદ હોય છે, જે વિવિધ ઉચ્ચ-ચોકસાઇવાળી સામગ્રીના સપાટી પોલિશિંગ માટે યોગ્ય છે. તેના મુખ્ય એપ્લિકેશન ક્ષેત્રોમાં શામેલ છે: ઓપ્ટિકલ ગ્લાસ, કેમેરા લેન્સ, મોબાઇલ ફોન સ્ક્રીન ગ્લાસ, હાર્ડ ડિસ્ક સબસ્ટ્રેટ્સ, એલઇડી સેફાયર સબસ્ટ્રેટ્સ, ઉચ્ચ-સ્તરીય ધાતુ સામગ્રી (જેમ કે ટાઇટેનિયમ એલોય, સ્ટેનલેસ સ્ટીલ, કિંમતી ધાતુના ઘરેણાં) અને અદ્યતન સિરામિક ઉપકરણો (જેમ કે એલ્યુમિના સિરામિક્સ, સિલિકોન નાઇટ્રાઇડ સિરામિક્સ, વગેરે). આ એપ્લિકેશનોમાં,ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડપોલિશિંગ પાવડર સપાટીની ખામીઓને અસરકારક રીતે ઘટાડી શકે છે અને ઉત્પાદનોની ઓપ્ટિકલ કામગીરી અને યાંત્રિક સ્થિરતામાં સુધારો કરી શકે છે.
વિવિધ પોલિશિંગ પ્રક્રિયાઓની જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરવા માટે,ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડએક જ પોલિશિંગ પાવડર બનાવી શકાય છે, અથવા તેને અન્ય પોલિશિંગ સામગ્રી (જેમ કે સેરિયમ ઓક્સાઇડ, એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ) સાથે મિશ્રિત કરી શકાય છે જેથી સારી કામગીરી સાથે પોલિશિંગ સ્લરી બનાવી શકાય. વધુમાં, ઉચ્ચ-શુદ્ધતા ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પોલિશિંગ સ્લરી સામાન્ય રીતે નેનો-ડિસ્પરશન ટેકનોલોજી અપનાવે છે જેથી કણો પ્રવાહીમાં ખૂબ જ વિખેરાઈ જાય જેથી એકત્રીકરણ ટાળી શકાય, પોલિશિંગ પ્રક્રિયાની સ્થિરતા અને અંતિમ સપાટીની એકરૂપતા સુનિશ્ચિત થાય.
એકંદરે, ઇલેક્ટ્રોનિક માહિતી ટેકનોલોજી, ઓપ્ટિકલ ઉત્પાદન, એરોસ્પેસ અને ઉચ્ચ સ્તરના તબીબી ક્ષેત્રોમાં સપાટીની ગુણવત્તાની જરૂરિયાતોમાં સતત સુધારો સાથે,ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ, એક નવા પ્રકારની ઉચ્ચ-કાર્યક્ષમતા પોલિશિંગ સામગ્રી તરીકે, ખૂબ જ વ્યાપક એપ્લિકેશન સંભાવના ધરાવે છે. ભવિષ્યમાં, અતિ-ચોકસાઇ મશીનિંગ ટેકનોલોજીના સતત વિકાસ સાથે, પોલિશિંગ ક્ષેત્રમાં ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડનો તકનીકી ઉપયોગ વધુ ઊંડો થતો રહેશે, જે ઉચ્ચ-અંતિમ ઉત્પાદન જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરવામાં મદદ કરશે.