ટોપ_બેક

ઉત્પાદનો

ઉચ્ચ ગુણવત્તા 99% ઝિર્કોનિયા ડાયોક્સાઇડ Zro2 ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડર


  • કણનું કદ:20nm, 30-50nm, 80-100nm, 200-400nm, 1.5-150um
  • ઘનતા:૫.૮૫ ગ્રામ/સેમી³
  • ગલન બિંદુ:૨૭૦૦° સે
  • ઉત્કલન બિંદુ:૪૩૦૦ ºC
  • સામગ્રી:૯૯%-૯૯.૯૯%
  • અરજી:સિરામિક, બેટરી, પ્રત્યાવર્તન ઉત્પાદનો
  • રંગ:સફેદ
  • ઉત્પાદન વિગતો

    અરજી

    ૧

    ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડર વર્ણન

    ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડર, જેને ઝિર્કોનિયા પાવડર અથવા ઝિર્કોનિયમ ડાયોક્સાઇડ પાવડર તરીકે પણ ઓળખવામાં આવે છે, તે એક બહુમુખી અને વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાતી સામગ્રી છે જેનો વિવિધ ઉદ્યોગોમાં ઉપયોગ થાય છે. અહીં ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડરનો ઝાંખી છે.

    ઝિર્કોન પાવડરના ફાયદા

    » ઉત્પાદનમાં સારી સિન્ટરિંગ કામગીરી, સરળ સિન્ટરિંગ, સ્થિર સંકોચન ગુણોત્તર અને સારી સિન્ટરિંગ સંકોચન સુસંગતતા છે;

    » સિન્ટર્ડ બોડીમાં ઉત્તમ યાંત્રિક ગુણધર્મો, ઉચ્ચ શક્તિ, કઠિનતા અને કઠિનતા છે;

    » તેમાં સારી પ્રવાહીતા છે, જે ડ્રાય પ્રેસિંગ, આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ, 3D પ્રિન્ટિંગ અને અન્ય મોલ્ડિંગ પ્રક્રિયાઓ માટે યોગ્ય છે.

     

    ગુણધર્મોનો પ્રકાર ઉત્પાદન પ્રકારો
     
    રાસાયણિક રચના  સામાન્ય ZrO2 ઉચ્ચ શુદ્ધતા ZrO2 3Y ZrO2 5Y ZrO2 ૮Y ZrO2
    ZrO2+HfO2 % ≥૯૯.૫ ≥૯૯.૯ ≥૯૪.૦ ≥90.6 ≥૮૬.૦
    Y2O3 % ----- ------ ૫.૨૫±૦.૨૫ ૮.૮±૦.૨૫ ૧૩.૫±૦.૨૫
    Al2O3 % <0.01 <0.005 ૦.૨૫±૦.૦૨ <0.01 <0.01
    ફે2ઓ3% <0.01 <0.003 <0.005 <0.005 <0.01
    સિઓ2% <0.03 <0.005 <0.02 <0.02 <0.02
    ટાઈઓ2% <0.01 <0.003 <0.005 <0.005 <0.005
    પાણીની રચના (wt%) <0.5 <0.5 <1.0 <1.0 <1.0
    LOI(wt%) <1.0 <1.0 <3.0 <3.0 <3.0
    ડી50(μm) <5.0 <0.5-5 <3.0 <1.0-5.0 <1.0
    સપાટી ક્ષેત્રફળ (m2/g) <7 ૩-૮૦ ૬-૨૫ ૮-૩૦ ૮-૩૦

     

    રાસાયણિક રચના

     

    ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ (ZrO2) એ ઝિર્કોનિયમનો સફેદ, સ્ફટિકીય ઓક્સાઇડ છે. તે એક સિરામિક સામગ્રી છે જે તેના અસાધારણ થર્મલ, યાંત્રિક અને વિદ્યુત ગુણધર્મો માટે જાણીતી છે.

    ગુણધર્મોનો પ્રકાર ઉત્પાદન પ્રકારો
     
    રાસાયણિક રચના ૧૨Y ZrO2 યેલો વાયસ્થિરZrO2 કાળો વાયસ્થિરZrO2 નેનો ZrO2 થર્મલ
    છંટકાવ
    ZrO2
    ZrO2+HfO2 % ≥૭૯.૫ ≥૯૪.૦ ≥૯૪.૦ ≥૯૪.૨ ≥90.6
    Y2O3 % ૨૦±૦.૨૫ ૫.૨૫±૦.૨૫ ૫.૨૫±૦.૨૫ ૫.૨૫±૦.૨૫ ૮.૮±૦.૨૫
    Al2O3 % <0.01 ૦.૨૫±૦.૦૨ ૦.૨૫±૦.૦૨ <0.01 <0.01
    ફે2ઓ3% <0.005 <0.005 <0.005 <0.005 <0.005
    સિઓ2% <0.02 <0.02 <0.02 <0.02 <0.02
    ટાઈઓ2% <0.005 <0.005 <0.005 <0.005 <0.005
    પાણીની રચના (wt%) <1.0 <1.0 <1.0 <1.0 <1.0
    LOI(wt%) <3.0 <3.0 <3.0 <3.0 <3.0
    ડી50(μm) <1.0-5.0 <1.0 <1.0-1.5 <1.0-1.5 <120
    સપાટી ક્ષેત્રફળ (m2/g) ૮-૧૫ ૬-૧૨ ૬-૧૫ ૮-૧૫ ૦-૩૦

     

    ગુણધર્મોનો પ્રકાર ઉત્પાદન પ્રકારો
     
    રાસાયણિક રચના સેરિયમસ્થિરZrO2 મેગ્નેશિયમ સ્થિર થયુંZrO2 કેલ્શિયમ સ્થિર ZrO2 ઝિર્કોન એલ્યુમિનિયમ કમ્પોઝિટ પાવડર
    ZrO2+HfO2 % ૮૭.૦±૧.૦ ૯૪.૮±૧.૦ ૮૪.૫±૦.૫ ≥૧૪.૨±૦.૫
    CaO ----- ------ ૧૦.૦±૦.૫ -----
    એમજીઓ ----- ૫.૦±૧.૦ ------ -----
    સીઓ2 ૧૩.૦±૧.૦ ------ ------ ------
    Y2O3 % ----- ------ ------ ૦.૮±૦.૧
    Al2O3 % <0.01 <0.01 <0.01 ૮૫.૦±૧.૦
    ફે2ઓ3% <0.002 <0.002 <0.002 <0.005
    સિઓ2% <0.015 <0.015 <0.015 <0.02
    ટાઈઓ2% <0.005 <0.005 <0.005 <0.005
    પાણીની રચના (wt%) <1.0 <1.0 <1.0 <1.5
    LOI(wt%) <3.0 <3.0 <3.0 <3.0
    ડી50(μm) <1.0 <1.0 <1.0 <1.5
    સપાટી ક્ષેત્રફળ (m2/g) ૩-૩૦ ૬-૧૦ ૬-૧૦ ૫-૧૫

     


  • પાછલું:
  • આગળ:

  • ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડર એપ્લિકેશન1

     

    ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડરના ઉપયોગો:

    1. સિરામિક્સ:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડર તેની ઉચ્ચ-તાપમાન સ્થિરતા અને યાંત્રિક શક્તિને કારણે અદ્યતન સિરામિક્સ અને પ્રત્યાવર્તન સામગ્રીના ઉત્પાદનમાં મુખ્ય ઘટક છે. તેનો ઉપયોગ સિરામિક કોટિંગ્સ, ક્રુસિબલ્સમાં અને કમ્પોઝિટમાં સિરામિક મેટ્રિક્સ તરીકે થાય છે.
    2. ડેન્ટલ ઇમ્પ્લાન્ટ્સ:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડનો ઉપયોગ દંત ચિકિત્સામાં ડેન્ટલ ક્રાઉન, બ્રિજ અને ડેન્ટલ ઇમ્પ્લાન્ટના ઉત્પાદન માટે થાય છે કારણ કે તેની બાયોકોમ્પેટિબિલિટી, મજબૂતાઈ અને સૌંદર્ય શાસ્ત્ર છે.
    3. ઇલેક્ટ્રોનિક્સ:તેના વિદ્યુત અવાહક ગુણધર્મોને કારણે તેનો ઉપયોગ કેપેસિટર્સ અને અન્ય ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટકોના ઉત્પાદનમાં થાય છે.
    4. ઘર્ષક:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડરનો ઉપયોગ ઘર્ષક સામગ્રીના ઉત્પાદનમાં થાય છે, જેમાં ગ્રાઇન્ડીંગ વ્હીલ્સ અને સેન્ડપેપરનો સમાવેશ થાય છે, કારણ કે તેની કઠિનતા વધુ હોય છે.
    5. થર્મલ બેરિયર કોટિંગ્સ:એરોસ્પેસ અને ગેસ ટર્બાઇન એન્જિનમાં, ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડનો ઉપયોગ ઉચ્ચ-તાપમાન વાતાવરણથી ઘટકોને સુરક્ષિત રાખવા માટે થર્મલ બેરિયર કોટિંગ તરીકે થાય છે.
    6. ફ્યુઅલ સેલ ટેકનોલોજી:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ આધારિત સામગ્રીનો ઉપયોગ ઘન ઓક્સાઇડ ફ્યુઅલ સેલ (SOFCs) માં ઇલેક્ટ્રોલાઇટ્સ તરીકે થાય છે કારણ કે તે ઊંચા તાપમાને તેમની આયનીય વાહકતા ધરાવે છે.
    7. ઉત્પ્રેરક:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડનો ઉપયોગ વિવિધ રાસાયણિક પ્રક્રિયાઓમાં ઉત્પ્રેરકો માટે સહાયક સામગ્રી તરીકે થાય છે.
    8. ઓપ્ટિકલ એપ્લિકેશન્સ:તેનો ઉપયોગ ઓપ્ટિકલ કોટિંગ્સમાં અને ઓપ્ટિકલ સિરામિક્સ અને લેન્સના ઉત્પાદનમાં એક ઘટક તરીકે થાય છે.
    9. બાયોમેડિકલ એપ્લિકેશન્સ:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડનો ઉપયોગ ઓર્થોપેડિક ઇમ્પ્લાન્ટ અને પ્રોસ્થેટિક્સમાં થાય છે, ખાસ કરીને હિપ અને ઘૂંટણ રિપ્લેસમેન્ટમાં.
    10. ઉમેરણ ઉત્પાદન:ઝિર્કોનિયમ ઓક્સાઇડ પાવડરનો ઉપયોગ 3D પ્રિન્ટીંગ અને એડિટિવ ઉત્પાદન પ્રક્રિયાઓમાં જટિલ, ઉચ્ચ-તાપમાન-પ્રતિરોધક ઘટકો બનાવવા માટે થાય છે.

    તમારી પૂછપરછ

    જો તમને કોઈ પ્રશ્નો હોય તો. કૃપા કરીને અમારો સંપર્ક કરવા માટે નિઃસંકોચ રહો.

    પૂછપરછ ફોર્મ
    તમારો સંદેશ અહીં લખો અને અમને મોકલો.